FLOVAⅡの基本性能
FLOVAⅡの基本性能
特徴1
溶剤ロスを最大10分の1に。
密閉式ですべての洗浄工程を1つの洗浄槽で完結。バスケットの出し入れ時も溶剤が大気に暴露することがなく、溶剤ロスを従来の開放型洗浄機に比べ1/4~1/10にまで抑えることが可能です。
特徴2
真空洗浄
真空により、溶剤中の空気が抜けることで超音波が効きやすくなり、高い洗浄力が発揮されます。
特徴3
省スペース・省電力
単槽式の為、コンパクトサイズ。
また、完全密閉構造の為、従来の開放型洗浄機では不可能だった、稼働時間以外のチラーの停止が可能です。
フッ素系ワンバス式真空洗浄機FLOVAⅡの
フッ素系ワンバス式真空洗浄機FLOVAⅡの
特徴・用途
用途
用途①
温暖化係数の高い洗浄液(HCFC・HFC)・臭素系・塩素系溶剤の代替
用途②
異物の除去
用途③
レンズ・ガラスの洗浄
用途④
樹脂ワーク・樹脂箱の洗浄
用途⑤
消防法対策
特徴
特徴①
粗洗浄➡仕上超音波洗浄➡蒸気洗浄➡乾燥
上記のプロセスをワンバスの中で、溶剤を出し入れしながら、全自動で行います。
特徴②
洗浄から乾燥まで密閉された洗浄槽の中で行い、バスケットの出し入れ時も含め、フッ素系溶剤が大気に暴露しないため、溶剤蒸発ロスを大幅に削減できます。
特徴③
バスケット搬送機構が不要なため、低コスト
特徴④
コンパクトで省スペース。洗浄槽にフリーボードがなく、高さも半分。
特徴⑤
完全密閉構造により、稼働時間以外はチラーを止めることが可能。
➡省エネが可能です。
特徴⑥
粗・仕上の真空超音波洗浄により、止まり穴の部品・張り付き部品の洗浄にも有効です。
FLOVAⅡの洗浄用途
FLOVAⅡの洗浄用途
FLOVAⅡは半導体製造装置部品・
レンズ・ガラス・光学部品など精密洗浄を
要求される洗浄工程で、フッ素系の洗浄液の消費量を限りなく抑えることが可能です。
レンズ・光学部品・ガラスの洗浄
プラスチック部品
半導体製造装置部品などの精密部品
FAQ
よくあるご質問
Q1
フッ素を使って洗浄することのメリットを教えてください。
従来の主な洗浄手段として、用いられる手段としては、炭化水素系洗浄及び水系洗浄があり、それぞれ、下記のようなデメリットがあります。炭化水素洗浄は、①引火性がある②消防法届出や指定数量など、管理方法に制限がある。③クリーンルーム内で使用ができないため、精密洗浄が不可な場合がある。一方で、水系洗浄のデメリットとしては、①洗浄液の管理:定期的な液の管理が必要になる。②大規模排水処理設備が必要③金属部品に対する錆の問題。などがございます。フッ素系溶剤は、①不燃性②蒸留再生が可能③比重が1.3~1.4と重いため、超音波が良く効き洗浄性が高い。④表面張力が高いため、浸透性と液切れが良い。など上記の特徴があり、炭化水素系洗浄や水洗浄のデメリットを解消できる第三の洗浄手段として、注目されています。
Q2
フッ素系洗浄液は単価が高く、実用的ではないというイメージがあるのですが?
フッ素洗浄液の単価は、他の洗浄剤と比較すると確かに、安価ではありません。揮発性も高く、産業用洗浄業界では、コストの高い溶剤として認知されていた側面はございます。しかし、FLOVAⅡには、次の2点の特徴により、単価の高いフッ素系洗浄液の消費量を大幅に減らすという特徴がございます。クリンビー社独自の①搭載されている蒸留機により、蒸留再生を行い、汚れと溶剤を分離して、繰り返し溶剤を利用することができる。②密閉されていることで、揮発性が抑えられ、蒸発ロスを大幅に防ぐ。これにより、大幅な消費量の削減を実現し、環境・人体への悪影響もなく、精密洗浄も可能な実用的な手段として、徐々に業界の認識が改まりつつあります。
Q3
フッ素系洗浄液は、温暖化係数やオゾン破壊係数が高いのではないですか?
従来、紫外線を浴びると成層圏で分解されたフロンがオゾン層を破壊するとのことで、脱フロンが叫ばれ、その代替手段として、炭化水素系洗浄機が発明された経緯がございましたが、近年では、脱フロンに対応した、代替フロンとして、温暖化係数およびオゾン層破壊係数の低い、新しいフッ素系洗浄剤が発明され、注目を浴びています。しかし揮発性&コストも高いため、消費量を抑えられる、FLOVAⅡを解決方法に選んでいただくケースも増えてまいりました。